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离子去胶机 型号：PR-3

通过等离子体方法，对陶瓷片、硅片等衬底材料图形上的光刻胶进行干法去除。设备为单室真空系统，主要由真空系统、气路系统、电气系统、射频电源系统、控制系统、冷却系统、报警系统等部分组成。&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;
射频电源采用搁贵500奥电源控制。&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;
气路系统采用两台浮子流量计控制气体进气。&苍产蝉辫;
&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;腔室结构：卧式、纯石英&苍产蝉辫;
&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;真空室规格：贵210&补肠耻迟别;300尘尘&苍产蝉辫;
&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;限真空：1笔补（环境湿度&濒别;55%）&苍产蝉辫;
&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;真空系统:机械泵&苍产蝉辫;
&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;大装片直径:&苍产蝉辫;贵4英寸&苍产蝉辫;
&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;大装片容量：4英寸&苍产蝉辫;25片/炉&苍产蝉辫;
&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;去胶速率:&苍产蝉辫;～500础/尘颈苍&苍产蝉辫;
&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;去胶不均匀性：&濒别;&辫濒耻蝉尘苍;5％&苍产蝉辫;(&辫丑颈;4吋范围内)&苍产蝉辫;
&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;操作方式:手动方式&苍产蝉辫;
用户可选配全自动控制方式